化学抛光原理 作者:无 • 更新时间:2023-05-16 09:31:18 •阅读 化学抛光是利用化学反应来去除材料表面的氧化层、腐蚀层、污染物等,使其表面变得光滑、平整的一种表面处理方法。其原理是在抛光液中加入一定的化学试剂,通过化学反应使材料表面发生化学变化,从而去除表面的不良物质,同时在表面形成一层新的氧化膜或化合物膜,使表面变得光滑、平整。常用的化学抛光方法有电解抛光、化学机械抛光等。 本文采摘于网络,不代表本站立场,转载联系作者并注明出处:https://www.gushi20.com/zhishi/22046.html