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化学抛光原理

化学抛光原理
化学抛光是利用化学反应来去除材料表面的氧化层、腐蚀层、污染物等,使其表面变得光滑、平整的一种表面处理方法。其原理是在抛光液中加入一定的化学试剂,通过化学反应使材料表面发生化学变化,从而去除表面的不良物质,同时在表面形成一层新的氧化膜或化合物膜,使表面变得光滑、平整。常用的化学抛光方法有电解抛光、化学机械抛光等。

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