光刻是一种半导体制造工艺，用于在半导体晶片上制造微小的结构和电路。其原理是利用光敏材料对紫外线光的敏感性，通过光刻机将光线投射到光刻胶上，形成所需的图案。光刻胶在紫外线的作用下会发生化学反应，形成图案，然后通过化学腐蚀或离子注入等方式将图案转移到半导体晶片上。光刻技术是半导体制造中最重要的工艺之一，其精度和稳定性对半导体器件的性能和可靠性有着至关重要的影响。